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利用可能研究設備詳細

設備名 雰囲気制御高温XRD((株)リガク・Ultima IV/RX)
設備コード S-HR-UFK-05-05
カテゴリ 粉末・薄膜X線回折、小角散乱(XRD, SAXS)
仕様 (本体)
 X線:CuKα線
 出力:1.6 kW(管電圧: 40 kV、管電流40 mA)
(Reactor X)
 使用温度範囲:室温 ~ 1000℃
 昇温速度:最大50℃/分
試料雰囲気:大気中、酸素、窒素など 
設備の所属 福井大学  ふくい産学官共同研究拠点   
利用受付  
備考 ※装置の予約は別システムで行っています。 ご利用の際は拠点管理室(kyoten@hisac.u-fukui.ac.jp)までご連絡ください。<http://www.hisac.u-fukui.ac.jp/gia/giatop.html> 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

利用料金は登録されていません。

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
Email:

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