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利用可能研究設備詳細

設備名 イオンビーム加工・表面分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)・Xversion200TB)
設備コード S-HR-UFK-05-01
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 FIB(SIM, Gaイオン):加速電圧1~30kV、最大電流45nA、最高分解能4nm
SEM(電解放出型電子銃):加速電圧5kVで分解能3nm、加速電圧1~30kV
エッチング用Arイオン銃:加速電圧1kV、10nA
炭素とタングステンのデポジションガス搭載
試料サイズ:φ200mm以下(8インチのウェハまで可)、厚さ5mm以下
X,Y,Z,T,Rの5軸制御試料ステージ、TEM試料のピックアップ機構あり:X,Y,Z,Rの4軸制御ピックアップ機構、加工深さ:最大約30μm 
設備の所属 福井大学  ふくい産学官共同研究拠点   
利用受付  
備考 ※装置の予約は別システムで行っています。 ご利用の際は拠点管理室(kyoten@hisac.u-fukui.ac.jp)までご連絡ください。<http://www.hisac.u-fukui.ac.jp/gia/giatop.html> 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
Email:

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