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利用可能研究設備詳細

設備名 イオンビームスパッタ装置(IBS-6000S)
設備コード S-HD-HU-RIES-35
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 Arイオンの照射により金属等を成膜する装置。
基板サイズ:通常φ50mm×厚さ最大20mm
基板加熱:600℃±25℃ 熱電対付ダミー金属基板(φ150mm×1.0mmt) 
設備の所属 北海道大学  電子科学研究所   
利用受付  
備考 http://openfacility.cris.hokudai.ac.jp/apparatus_list 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
Email:

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