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利用可能研究設備詳細

設備名 超高精度電子ビーム描画装置(ELS-7000HM)
設備コード S-HD-HU-RIES-27
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 概要・性能
レジスト材料等に対し、電子線ビーム照射による微細パターンの描画が可能である。
電子銃エミッター ZrO/W熱電界放射型
加速電圧 25,50,75,100kV
最小線幅 8nm(5nm可能)
試料サイズ 最大6インチ(オプション:8インチ)
ステージ移動範囲 X:150mm / Y:155mm
重ねあわせ精度 40nm
フィールド継ぎ精度 40nm 
設備の所属 北海道大学  電子科学研究所   
利用受付  
備考 http://openfacility.cris.hokudai.ac.jp/apparatus_list 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
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