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利用可能研究設備詳細

設備名 分子線エピタキシー装置(32P)
設備コード S-HD-HU-FE-02
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 超高真空中で、半導体結晶のエピタキシャル成長を行う装置。GaAs基板上に金属ソース料からの分子線を照射しGaAs/AlGaAs量子井戸やInAs量子ドットなどのIII?V族半導体を成長できる(シュラウドは液体窒素冷却)。 
設備の所属 北海道大学  工学研究院   
利用受付  
備考 http://openfacility.cris.hokudai.ac.jp/apparatus_list 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
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