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利用可能研究設備詳細

設備名 ICP高密度プラズマエッチング装置(RIE-101iHS)
設備コード S-HD-HU-RIES-08
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 化合物材料のドライエッチングが可能である。
反応器 φ309.5mm
試料ステージ φ106mm
ロードロック室 365X278mm
ICP:13.56MHz、500W
Bias:13.56MHz、300W 
設備の所属 北海道大学  電子科学研究所   
利用受付  
備考 http://openfacility.cris.hokudai.ac.jp/apparatus_list 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
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