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利用可能研究設備詳細

設備名 3次元レーザー・リソグラフィ・システム独ナノスクライブGmbH フォトニックプロフェッショナル
設備コード S-CB-NAU-ENG-08
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 2次元加工精度:100 nm,3次元加工精度:150 nm, 加工範囲:300×300×300 mm3(ピエゾステージ),最大描画範囲:100×100 mm2(粗動ステージ),レーザ波長:780 nm,対応データ:DXF, STL 
設備の所属 名古屋大学  大学院工学研究科   
利用受付  
備考 ※本装置の利用は,ナノプラットフォーム事業を通して申請を受け付けています. 申請手順,利用料金は次のURLを参照ください.<http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/
※装置の予約はNUナノリンク(微細加工・計測機器ネット予約管理システムで行っています.ご利用の際は,丸山(hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp)までご連絡ください. 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

利用料金は登録されていません。

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
Email:

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