設備リスト

ホーム > 設備リスト > 利用可能研究設備詳細

利用可能研究設備詳細

設備名 超薄膜形成加工プロセス装置 NUシステム NU-CCP/ALD型
設備コード S-CB-NAU-ENG-06
カテゴリ 微細加工装置(EB, FIB他)
仕様 室温からの低温下で、SiO2やSiNの原子層堆積が可能。また、その反応素過程をFTIRでIn-situ解析可能。基板温度:20~600℃、使用ガス:SiH4,Ar,N2,H2,O2 
設備の所属 名古屋大学  大学院工学研究科   
利用受付  
備考 ※装置の予約はナノプラットフォームで行っています。下記よりお問い合わせください。
http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/index.html 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
設備ニュース 現在ニュースの登録はありません。

利用料金

利用料金は登録されていません。

↑

お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
Email:

個人情報保護方針サイトポリシーサイトマップ