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利用可能研究設備詳細

設備名 超高精度電子ビーム描画装置(ELS-F125-U)
設備コード S-HD-HU-RIES-13
カテゴリ 透過型電子顕微鏡 (TEM)
仕様 レジスト材料等に対し、電子線ビーム照射による微細パターンの描画が可能である。
電子銃 ZrO/W熱電界放射型
加速電圧 125kV, 75kV, 25kV
最小電子ビーム径 φ1.7nm (125kV)
描画最小線幅 5nm (125kV)
ビーム電流強度 5×10-12?1×10-7A
描画フィールドサイズ 最大2,400μm×2,400μm
最小75μm×75μm
ビームポジション 最大960,000×960,000 (20bit DAC)
ビーム位置決め分解能 0.078nm
最大試料サイズ 6インチφウェハー又は6インチ□マスク
(オプションで8インチ可能) 
設備の所属 北海道大学  電子科学研究所   
利用受付  
備考 http://openfacility.cris.hokudai.ac.jp/apparatus_list 
公開範囲
国立大学法人・大学共同利用機関法人
その他研究・教育機関
公企業・私企業
予算措置
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利用料金

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お問合せ先
自然科学研究機構分子科学研究所

〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
大学連携研究設備ネットワーク事務局
電話番号:0564-55-7490
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